Nikon Mini StepperNikon Engineering Stepper
MEMS 디바이스의 다양화에 대응
- 2～6인치 웨이퍼 대응(NES1), 6～8인치 웨이퍼 대응(NES2)
- MEMS용 R&D 용도에서 양산까지 1대로 대응 가능
- 다양한 기판 사이즈 / 형태, 접착, 변형 등 커스텀 대응 가능
- 깊은 DOF로 두꺼운 PR 노광대응
- IR 투과 얼라인먼트,Back면 얼라인먼트 가능(Option）
- Small Footprint로 협소한 공간에도 효율적 운용가능
Nikon Mini Stepper
NES Series-i10
• 새롭게 디자인된 투사렌즈 개발로 보다 넓은 필드 사이즈와 고해상도 실현 (44x44mm)
• 노광영역 확대에 따른 Throughput 향상
• SEMI/ CE 준수
• 옵션사양으로 고정밀 배면 정렬장치 적용가능
• 세계 최소수준의 Foot print
Nikon Mini Stepper
NES Series-ghi06/i06
• 고출력 i-line과 22mmx22mm의 넓은 노광영역으로 생산성 향상
• i-line 프로세스뿐만 아니라 i-line PR에도 적용 가능하며
• NA가 0.13인 투사렌즈 채택으로 초점심도와 해상도가 가장 높은 조합
• SEMI 2/8 및 NFPA79 준수
• 옵션사양으로 고정밀 배면 정렬장치 적용가능
• 세계 최소수준의 Foot print
Nikon Mini Stepper
NES Series-h04/h04A
• LED&MEMS에 최적화된 투영 렌즈 채택
• 새로운 광학계로 노출 Power 및 Throughput 향상
• 1 Reticle방식 2 Pattern적용으로 Reticle 비용절감 효과 증진
• NES1W-h04/h04A, NES2W-h04/h04A ( CE/SEMI규격 대응장비 )
• 세계 최소 수준의 Small Footprint
- 두꺼운 Photo Resist에도 대응 가능 (PR 10um 이상에서, L/S 3um)
- BOW Wafer에도 대응 가능(4inch기준 BOW 200um대응)
2. Smallest Footprint
- 세계 최소 레벨의 Footprint ( W: 1150 x D: 1940 x H:2080 )
3. 고정도 Backside Alignment, IR용 Alignment 중 선택 가능
4. 비용대비효과가 뛰어난 Basic Model
| Option |
- Auto Wafer Loader
- Environmental Chamber(Wafer-Cooling)
- Back Side Alignment System
- Test Reticle Kit
- Auto Reticle Slider (for Multi-Pattern Reticle)
- Reticle Barcorde Reader (for Manual Reticle Slider)
- Auto Sigma Changer
- IR Alignment System
- Recipe Editor
- Uninterruptible Power Supply(UPS)
